一、什么是EDI超純水設備

是應用有反滲透系統(tǒng)之后，取代混合離子交換床的成熟技術具有產水品質穩(wěn)定，運行費用低，操作管理方便。占地面積小及無有害廢水排放等優(yōu)點。超純水制備工藝的發(fā)展方向，已被全SJ主要水處理工程公司所認證。自1986年EDI技術工業(yè)化以來，已有數千套EDI投入支行，尤其在制藥、半導體、電力和光電等工業(yè)中得到了非常廣泛的應用?？偟恼f有八大優(yōu)點：

   ① 不需要酸堿再生；

   ② 可連續(xù)生產：

   ③ 不需要處理廢酸堿；

   ④ 運行成本低；

   ⑤ 系統(tǒng)設計安裝簡單；

   ⑥ 安裝條件簡單；

   ⑦ 出水水質穩(wěn)定；

   ⑧ 標準設計。

二、EDI超純水設備技術

  EDI是水處理技術上一項革命性進步。該技術應用電再生離子交換除鹽工藝取代傳統(tǒng)混合離子交換除鹽工藝 DI 。通過離子交換樹脂及選擇性離子膜達到高脫鹽效果，與反滲透結合的聯(lián)合工藝使產水水質可達 10~15M Ω• CM 的高規(guī)格產水。

三、EDI超純水設備基本參數

1、給水：RO純水，一般水的電導率為4-30us/cm。

2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)

3、溫度：5-35℃

4、進水壓力：最大為4kg/cm2(60psi)，最小為1.5kg/cm2(25psi)。

四、EDI純水模塊（電除鹽）的優(yōu)點

1、不需要酸堿再生：電除鹽的操作安全的，廢水的處理變得簡單了。

2、可連續(xù)生產：電除鹽的生產是連續(xù)的，免除了使用混床過程中復雜的再生操作，減少了很多備用設備。

3、不需要處理廢酸堿：沒有廢酸堿的中和排放處理系統(tǒng)。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進口（EDI中濃水量比純水少得多）。

4、安裝條件簡單：電除鹽在安裝時，占地面積小，大部分標準廠房都能滿足，對于較低的廠房，可以通過對電除鹽模塊的水平配置解決。

5、系統(tǒng)設計簡單：電除鹽的模塊設計很容易把它的流量做到450噸/小時甚至更高。

6、運行成本低：電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比，在價格上有競爭性。

7、實用的設計：對于電除鹽系統(tǒng)，不管是維修還是增減設備的容量都是很容易的,必須要更換膜堆時，在現(xiàn)場只要花極少的停機時間就可以完成。

8、水質穩(wěn)定：電除鹽的出水質量穩(wěn)定有把握。不會有普通混床那樣的水質變化。

9、安裝維修簡便：電除鹽裝置允許通過對其他膜堆的流量重新分配而達到對某一個膜堆維修的要求，不改變系統(tǒng)的性能。

10、標準設計：利用標準單元，如同搭積木般的組合可以滿足用戶不同產水量的需要。

四、應用

應用于電池行業(yè)領域，超純水系統(tǒng)設備在工業(yè)行業(yè)中的應該領域很是廣泛。電池行業(yè)用超純水包括蓄電池生產用純水，鋰電池生產用純水，太陽能電池生產用純水，蓄電池格板用純水。電池中電解液的配備對純水要求十分嚴格, 通常要求水的電導率在0.1us/cm(電阻值在10兆歐姆)以上，傳統(tǒng)用來制備電池用超純水的工藝是常采用陰陽樹脂交換設備，該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經常再生。

1.電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

2.化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水制備。

3.單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。

4.食品工業(yè)用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業(yè)等。

5.海水、苦咸水淡化：海島、艦船、高鹽堿地區(qū)生活用水改善。

6.樓宇、社區(qū)優(yōu)質供水:星級賓館、機場、房產物業(yè)純水網絡系統(tǒng)等。

7.化工行業(yè)工藝用水：化工冷卻、化肥、化學藥劑制造。

8.工業(yè)產品制造用水：汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細加工清洗等純水制備。

9.電力行業(yè)鍋爐補給水:熱力、火力發(fā)電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統(tǒng) 精細化工、精尖學科用水。

超純水設備中EDI模塊的進水經過預處理和反滲透系統(tǒng)在很大的程度上減少了膜塊內部阻塞的機會，但是隨著設備運行時間的延展，EDI膜塊內部水道還是有可能產生阻塞。遇到上述情況，必須對超純水系統(tǒng)設備中EDI模塊進行清洗，使之恢復到原來的技術特性。

EDI模塊要怎么清洗?

1、在線清洗：在線清洗就是指對反滲透系統(tǒng)總體開展清洗，膜元器件無需取出高壓容器，一般在很大系統(tǒng)軟件中設計方案應用。此清洗方法使用方便便捷，速度快，缺陷為清洗不*，實際效果不理想化。

2、線下清洗：線下清洗就是指將超純水系統(tǒng)設備中EDI模塊從反滲透高壓容器中卸掉，裝進專用型清洗機器設備中開展清洗，此清洗方法使用方便便捷，清洗*、實際效果好。

清洗注意事項：

1、需要清洗的設備管路必須是與其他連接設備的連接管路*隔離的。

2、需要清洗的設備其電源必須是*切斷并有“正在操作，不得送電”的安全警示。

3、整個清洗過程中清洗的工作壓力不能超過 0.15MPa。

4、嚴禁應用甲苯或別的的有機溶劑。

5、維護安全性標識。